DT155-NM
Drehtische
Hochauflösender Drehtisch, Verfahrweg unbegrenzt, Repro bis 0.0003°, Speed bis 300°/s, Last bis 0.5 kg
Hochpräzise mit dynamischer Bildgebung
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Optionen:
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Anwendungsfelder
Hochpräzise und dynamische Mikroskopie z.B. Elektronenmikroskop, Ionen-Mikroskop, Rasterelektronenmikroskop, Waferhandling, Waferinspektion, Halbleiter Qualitätskontrolle, Halbleiterforschung
DT155 | -NM | |
Verfahrweg | [deg] | n x 360 |
Wiederholgenauigkeit unidirektional | [deg] | ± 0.0003 |
Wiederholgenauigkeit bidirektional | [deg] | ± 0.0005 |
Positioniergeschwindigkeit | [deg/s] | 200 |
Max. Geschwindigkeit | [deg/s] | 300 |
Max. Last | [N] | 49 |
Länge | [mm] | 200 |
Breite | [mm] | 155 |
Höhe | [mm] | 35 |
Gewicht | [kg] | 1.7 |
Drehteller | [mm] | Ø 150 |
Apertur | [mm] | Ø 79 (3") |
Motor | Nanomotion (Piezo) | |
Lager | 2 Dünnringlager | |
Feedback | Winkelmesssystem | |
Auflösung Messsystem | 0.00005° | |
Optionale Zusatzausstattung | kundenspezifsche Adapter, Bohrungsraster, Kabel / Stecker, Kombination mit Steinmeyer Standard XY-Kreuztischen, Linarachsen, Hubtischen | |
Varianten Reinraum | bis Reinraum Klasse ISO 6 (höher auf Anfrage) | |
Varianten Strahlung | UV, DUV, EUV (Röntgen, Gamma auf Anfrage) | |
Varianten Magnetismus | magnetisch, magnetarm (magnetfrei auf Anfrage) | |
Varianten Vakuum | alle Bereiche bis 10E-11 mbar HV / UHV |
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Ausführungen Reinraum, Strahlung und Vakuum
Nahezu alle atmosphärischen Standardachsen sind eloxiert mit UHV-Schmierung für Restdrücke bis 10E-6 mbar und min. Reinraum Klasse ISO 6 - oder noch besser - verfügbar.
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