Yield-Maximierung im kleinsten Bauraum

Dieses hochpräzise Positioniersystem ist speziell als ergänzender Polarisationsfilter für die Miniaturisierung und Automatisierung in der DUV-Lithografie entwickelt worden. Dieser maximiert die Belichtungsqualität als auch den Yield eines vorhandenen Wafer-Steppers unter stark begrenztem Bauraum von ca. 120 x 180 x 31 mm. Dazu werden drei, unabhängig voneinander positionierfähige Filter im Strahlengang der optischen Anlage verschoben.

Es kann für hochauflösende Prozesse unter extremen Umweltbedingungen eingesetzt werden, wie DUV und eine trockene sowie sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre.

Optimierung der Genauigkeit in extremen Umgebungen

Individuelle Erweiterungen und Anpassungen

Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung der Systeme an Ihre Struktur und die gewünschten Steuerungen. Darüber hinaus entwickeln wir Prototypen und passen die Systeme gerne an die Umgebungsanforderungen Ihrer Anwendung an, z.B. Partikelemission, Strahlung, Temperatur, Präzisions-Sonderteilefertigung, Arbeitshöhe, Kollisionsschutz, Sicherheitskonzept, Kompensationsfaktor und -filter, Sensorhalterung, Bremse, Entkopplung, Sonderschmierung, Sonderfarben, Halter, Adapter, Sondermotoren mit Pharmazulassung, Umfangreiche Dokumentationen, Testprotokoll, Lebensdauertests

Anwendungsfelder

Miniaturisierung und Automatisierung in der Standard-, Elektronenstrahl- und DUV-Lithografie z.B. Wafer, Chips, Die, Pins, Bonding, Leiterplatten, Solarzellen, Solarpanels, polarisationsempfindliche Photosensoren sowie Microstructuring, Filtereinstellung, Messung der Polarisation des einfallenden Lichts