XY-Theta-Justage von UV-Belichtungsmasken | Hochpräzises Positioniersystem für die Wafer-Belichtung in trockener Stickstoffatmosphäre
Handling und Produktion
786001:002.26
µm-Justage für Microstructuring unter extremen Bedingungen
Dieses 3-Achs-Maskensystem ist speziell für die hochpräzise Justage von Belichtungsmasken für die UV-Lithografie entwickelt. Dieses Positioniersystem verfügt über drei Linearachsen mit parallel kinematischen Aufbau: zwei in X und eine in Y. Die beiden vertikalen Achsen erzeugen sowohl Vertikalhub (gleiche Bewegung) als auch Drehung (gegensinnige Bewegung). Es ermöglicht somit eine hochpräzise lineare und rotatorische Positionierung der Masken im Nanometerbereich unter ultravioletter Strahlung sowie in ultra-trockener Stickstoffatmosphäre.
Hochpräzise UV-Wafer-Belichtung
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Optional erweiterbar:
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Ganzheitliches Konzept für Beschichtung und Schmierung
Diese besonderen Umgebungsbedingungen erfordern spezielle Materialien und Schmiermittel. So sind zur Minimierung der Streustrahlung alle Strukturteile mit einer speziellen optimierten Beschichtung versehen, die die ultraviolette Strahlung absorbiert. Zum Einsatz kommt außerdem ein hochspezialisiertes Schmiermittel, dass unter ultravioletter Strahlung eine ausgezeichnete chemische Stabilität sowie eine äußerst geringe Ausgasrate aufweist. Es ist darüber hinaus thermisch stabil, nicht entflammbar und unlöslich in Wasser, Säuren, Basen und den meisten organischen Lösemitteln.
Optimiertes Wartungskonzept
Zur Wartung kann das System seitlich aus der optischen Achse heraus in Service-Positionen gefahren werden. Ein magnetisch vorgespannter Schnellwechselmechanismus sorgt bei Bedarf für einen schnellen und einfachen Austausch der Maske mit nur wenigen Handgriffen. Genauso unkompliziert gestaltet sich die Wartung der Motoren und Initiatoren, die als Wechselbaugruppe ausgeführt sind.
Individuelle Erweiterungen und Anpassungen
Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung der Systeme an Ihre Struktur und die gewünschten Steuerungen. Darüber hinaus entwickeln wir Prototypen und passen die Systeme gerne an die Umgebungsanforderungen Ihrer Anwendung an, z.B. Partikelemission, Strahlung, Temperatur, Präzisions-Sonderteilefertigung, Arbeitshöhe, Kollisionsschutz, Sicherheitskonzept, Kompensationsfaktor und -filter, Sensorhalterung, Bremse, Entkopplung, Sonderschmierung, Sonderfarben, Halter, Adapter, Sondermotoren mit Pharmazulassung, Umfangreiche Dokumentationen, Testprotokoll, Lebensdauertests
Anwendungsfelder
Hochpräzise Justage von Belichtungsmasken in der Standard-, Elektronenstrahl- und UV-Lithografie z.B. Wafer, Chips, Die, Pins, Bonding, Leiterplatten, Solarzellen, Solarpanels, polarisationsempfindliche Photosensoren sowie Microstructuring
786001:002.26 | X | Z | Ry | |
Verfahrweg | [µm; deg] | 150 | 50 | ± 1.5 |
[µm; deg] | ± 1.5 | ± 2.5 | ± 0.03 | |
[µm; deg] | ± 2.5 | ± 3.5 | ± 0.05 | |
[mm/s; deg/s] | 25 | 25 | ||
Max. Last | [kg] | 3.5 | ||
Motor | DC-Motor | |||
Anrieb | Kugelgewindetrieb | Kugelgewindetrieb | Kugelgewindetrieb | |
Feedback | Motor-Encoder | Motor-Encoder | Motor-Encoder |
Verwendete Standard Komponenten
KGT 1412 / 1432
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