2X-Y-Ys (XYZ) Positioniersystem für die Wafer-Inspektion / Raman-Spektroskopie bis 12"/ Panel (Reinraum ISO 4) | Hub 400 x 400 mm
Inspektion und Mikroskopie

AB.Raman.V3

Das 2X-Y-Ys(Z) Positioniersystem ermöglicht hochauflösende Bewegungen in XYZ für Proben bis 400 x 400 mm mit zusätzlichem Beladehub und Lasten bis zu 40 kg. Der Gantryaufbau sorgt für die XY-Bewegung. Mit einem doppelt langen Hub in der oberen Achse wird, zusätzlich zum 400 mm Arbeitshub in XY, ein Beladehub von weiteren 400 mm realisiert. Die Vertikalbewegung und der Fokus werden durch eine schräg angeordnete Achse bei gleichzeitiger Bewegung der Y-Achse ermöglicht. Der Schräghub ist Teil des Beladehubs. Durch die gleichzeitige Ansteuerung der Achsen Y und Ys wird die vertikale Bewegung in Z realisiert.

Verschiedene Scanbereiche bis 400 x 400 mm für Wafer bis 12 inch / Panel bis 400 mm (größer auf Anfrage)

Aufbau für ortsfeste Optik – nur der Chuck wird bewegt

Kombinierte Bewegung von Keil und Travese für Höhenverstellung (zusätzlicher Beladehub von 400 mm)

Gantry Kombination für maximale Steifigkeit und hohe Lasten bis 50 kg

Wartungsarm bei 24/7-Produktion bis Reinraumklasse ISO 4 (höher auf Anfrage)

Optionen:

Linearmaßstab für 0.5 µm Wiederholbarkeit
Scanachsen mit hochpräzisen Kugel-, Gleitgewindetrieb oder Linearmotor für hohen Durchsatz
Kippachsen zum Ausrichten des Chucks
Hochauflösender Drehtisch zum Vermessen runder Proben
Anpassung an den Prozess: Apertur, Probenhalterung, Erweiterung zusätzlicher (motorisierter) Achsen
Sicherheitskonzept und -technik (Not-Aus, Türschalter, Lichtgitter, Laserscanner, STO, SLS)
Individueller Aufbau mit Gestell, Umhausung oder Einbindung in die Fab
Kundenspezifische Entwicklung mit 3D-Entwurf, Prototypen, Serienproduktion

Anwendungsfelder

Analyse organischer Verbringungen auf hochreinen Oberflächen bis Reinraum ISO 4 (Probengröße bis 12 inch / 400 x 400 mm), Wafer Inspektion, Halbleiter Produktion- und Entwicklung, Chucks, Wafer, Chips, Untersuchung von Funktionsflächen in der Halbleiterproduktion um Konatmination auszuschließen: Lithopraphiegeräte, Waferstepper, Dicing, Display-Herstellung, Physikalische Oberflächenanalyse, Medikamentenentwicklung, Assey-Entwicklung, Screening, Wirkstoffoptimierung, Werkstoffuntersuchungen

Spezifikationen

AB.Raman.V3		2X	Y	Z (Ys)
Standard System		PLT165-SM-L	PLT240-SM-L	PLT165-SM-L
Verfahrweg	[mm]	400	900	40
Wiederholgenauigkeit unidirektional	[µm]	± 0.3	± 0.3	± 0.3
Wiederholgenauigkeit bidirektional	[µm]	± 0.5	± 0.5	± 0.5
Positioniergeschwindigkeit	[mm/s]	40	40	10
Max. Geschwindigkeit	[mm/s]	80	80	20
Max. Last	[N]			400
Max. Probengröße	[mm]	Ø 400 mm / 12" (höher auf Anfrage)
Länge x Breite x Höhe	[mm]	1500 x 1100 x 1000
Antrieb		Kugelgewindetrieb, optional Gleitgewindetrieb oder Linearmotor
Spindel Typ		1412.570/5.16.539.644 P5P / 222138
Spindel Steigung		5	5	5
Führung		Profilschiene	Profilschiene	Profilschiene
Motor		Schrittmotor	Schrittmotor	Schrittmotor
Feedback		Linearmesssystem (optinal Open Loop)
Optionale Zusatzausstattung		Linearmotor für hohen Durchsatz, Linearmaßstab für 0.5 µm Wiederholbarkeit, Kippachsen zum Ausrichten des Chucks, Drehtisch, Bandabdichtung, Absaugung, Bremse, Probenhalter, Umhausung, Sicherheitskonzept und -technik (Not-Aus, Türschalter, Lichtgitter, Laserscanner, STO, SLS)
Reinraum Varianten		bis Reinraum Klasse ISO 4 (höher auf Anfrage)
Strahlung Varianten		UV, DUV (EUV, Röntgen, Gamma auf Anfrage)
Varianten Magnetismus		magnetisch (magnetarm auf Anfrage)

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.